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    低溫熱CVD成長摻鎵氧化鋅薄膜的熱退火研究
    • 化學工程系 /104/ 碩士
    • 研究生: 王博偉 指導教授: 洪儒生
    • 本研究目的在於探討以低壓化學氣相沉積的方式製備具有高光學散射結構的摻鎵氧化鋅薄膜,以及藉由不同之退火模式來提升因低溫成長而不足的薄膜電性,以期用於取代氧化銦錫作為藍光發光二極體的透明導電接觸層。 …
    • 點閱:241下載:1

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    以電漿輔助化學氣相沉積法製備表面粗糙化的摻鎵氧化鋅薄膜
    • 化學工程系 /103/ 碩士
    • 研究生: 陳毅修 指導教授: 洪儒生
    • 本研究乃針對藍光氮化鎵發光二極體元件的p型氮化鎵透明導電接觸層提出一取代材質及製程,考慮現在工業製程所使用的氧化銦錫薄膜中稀有元素銦的價昂,提案改使用同為透明導電氧化物的摻鎵氧化鋅來取代氧化銦錫。同…
    • 點閱:351下載:3
    • 全文公開日期 2019/10/02 (校內網路)
    • 全文公開日期 2024/10/02 (校外網路)
    • 全文公開日期 2019/10/03 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

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    以有機金屬氣相磊晶法製備氮化鎵/氮化銦鎵發光二極體之研究-圖案化基材、緩衝層及反平行電域結構對元件特性的效應
    • 應用科技研究所 /100/ 博士
    • 研究生: 黃振斌 指導教授: 洪儒生
    • 本論文使用有機金屬氣相沈積法(metalorganic chemical vapor deposition, MOCVD)製備氮化鎵/氮化銦鎵發光二極體,分別利用添加ZnO當作緩衝層、改變GaN在高…
    • 點閱:282下載:7
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